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　　材相樣品的拋光，類(lèi)似于研磨，并在研磨步驟之后，是為了消除引入材料中的變形。為此，未粘接的磨料/顆粒被應(yīng)用于逐漸趨細(xì)粒度的特殊拋光布上。QATM金相拋光耗材寬范圍的QPREP拋光介質(zhì)、潤(rùn)滑劑和拋光布可用于此目的。

　　機(jī)械研磨是一種利用粘接的磨料顆粒使試樣表面平整和光滑的加工過(guò)程。碳化硅 (SiC), 氧化鋁 (Al2O3),氧化硅 (SiO2), 氧化鋯 (ZrO2), 金剛石或立方氮化硼(CBN) 被用來(lái)作為磨料。Qprep研磨介質(zhì)在盡可能減少制備步驟的同時(shí)，實(shí)現(xiàn)了低變形材料去除。砂紙粒度和磨料尺寸對(duì)照表此處所提供的值僅作為指導(dǎo)。粒度被認(rèn)為是一個(gè)范圍，而不是一個(gè)特定的值。歐洲磨料生產(chǎn)商聯(lián)合會(huì)(FEPA)和美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)協(xié)會(huì)(ANSI)以及日本工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì)(JISC)是各自定義這些標(biāo)準(zhǔn)的組織，也是轉(zhuǎn)換或?qū)φ盏幕A(chǔ)。Q

　　QATM磨拋動(dòng)力頭QPOL GO單點(diǎn)壓力： 5 – 45 N樣品數(shù)量 1-4 40 mm配合手動(dòng)磨拋機(jī)Qpol 250/300 M1/2使用

　　標(biāo)樂(lè)研磨拋光機(jī)磁性盤(pán)系統(tǒng)特點(diǎn)：▲可快速更換的Apex S系統(tǒng)?在其的高摩擦表面上可以快速涂膠和去除表面。 該系統(tǒng)的底座是帶有Apex S薄膜的鋁盤(pán)。?CarbiMet S和MicroCut S產(chǎn)品專(zhuān)為此系統(tǒng)設(shè)計(jì)?！喙δ艽疟P(pán)系統(tǒng)?磁性磨盤(pán)系統(tǒng)可以快速更換拋光布，并適配多種拋光布。該系統(tǒng)底座為鋁盤(pán)，并帶有磁鐵。?許多金剛石研磨盤(pán)和拋光布（具體型號(hào)可至相關(guān)耗材頁(yè)面查看）都帶有磁性襯背，可直接固定在磁性磨盤(pán)上。磁性載板也可用于PSA背膠產(chǎn)品。標(biāo)樂(lè)研磨拋光機(jī)磁性盤(pán)系統(tǒng)參考規(guī)格：類(lèi)型數(shù)量8″[203mm]10″[2

　　樣品夾具設(shè)計(jì)用于Buehler的磨拋機(jī)，以便于研磨拋光過(guò)程的優(yōu)化和自動(dòng)化。根據(jù)樣品的形狀和大小，有多種不同尺寸和形狀的夾具可供選擇。夾具尺寸及形狀多樣用于單點(diǎn)力和中心力應(yīng)用的標(biāo)準(zhǔn)夾具，能夠夾持圓形鑲嵌試樣、長(zhǎng)方形試樣和玻璃載玻片。標(biāo)樂(lè)磨拋機(jī)樣品夾具參考規(guī)格：Single Force Specimen HoldersEcoMet 30 Power HeadFor use with 60-9005 Drive Adapter零件號(hào)類(lèi)型樣品直徑大安裝樣品數(shù)配件60-10060圓形1″4 個(gè)試樣63-1022 R

　　某些特殊的應(yīng)用需要特定的耗材及解決方案。特殊夾具搭配各類(lèi)研磨盤(pán)和研磨粉可用于電路板的磨拋。?PC-Met 精密印刷線路板附件應(yīng)用于大批量印刷線路板制備，配合AutoMet 250/300動(dòng)力頭使用。多可同時(shí)制備36個(gè)樣品。可高重復(fù)性地制備通孔尺寸低至0.008″ 的樣品。?PWB-Met 通孔樣品制備附件應(yīng)用于大批量印刷線路板制備，配合AutoMet 250/300動(dòng)力頭使用。多可同時(shí)制備18個(gè)樣品?？筛咧貜?fù)性地制備通孔尺寸低至0.004″ 的樣品。?FibrMet 研磨盤(pán)FibrMet 研磨盤(pán)適用于玻璃

　　終拋光懸浮液旨在去除表面變形的后一層，并準(zhǔn)備樣品進(jìn)行分析。 肉眼可能看不到變形，但是對(duì)于某些標(biāo)本分析技術(shù)，必須將其消除。Buehler提供了多種氧化鋁和二氧化硅產(chǎn)品，其中包括膠體二氧化硅拋光懸浮液，可以滿足許多不同的應(yīng)用需求。特點(diǎn)：◆良好的表面處理——終拋光液可以去除肉眼不可見(jiàn)的終表面變形層。當(dāng)使用高倍物鏡、偏振光、微分干涉對(duì)比來(lái)評(píng)價(jià)樣品以及使用 EBSD 技術(shù)時(shí)，去除這種變形是必不可少的?！籼囟☉?yīng)用解決方案——氧化鋁終拋液和粉末以及硅膠終拋液為現(xiàn)有的各種材料提供了多樣的解決方案。參考規(guī)格：氧化物拋光液規(guī)

　　MetaDi鉆石懸浮液和漿料是的單晶和多晶金剛石拋光產(chǎn)品，可提供可重復(fù)的性能并提供良好的樣品質(zhì)量。嚴(yán)格控制Buehler的MetaDi鉆石懸浮拋光劑和糊劑產(chǎn)品，以防止粒徑或濃度出現(xiàn)任何偏差。 這樣可尋求每個(gè)樣品的拋光結(jié)果均具有可重現(xiàn)性，并具有的表面光潔度。基于微米尺寸的顏色編碼的鉆石懸浮液和糊劑有助于防止拋光表面上的交叉污染。由于對(duì)水的性或鉆石的嵌入，某些材料與傳統(tǒng)的水基懸浮液不兼容。 與水的材料一起使用時(shí)，油基MetaDi單晶金剛石懸浮液以及MetaDi金剛石漿料提供了多種選擇。標(biāo)樂(lè)金剛石懸浮液及研磨膏

　　拋光布配合研磨料使用，可去除表面變形層，暴露材料結(jié)構(gòu)進(jìn)行金相分析。由于拋光是金相制備過(guò)程中其重要的一步，所以選擇的拋光布是非常必要的。標(biāo)樂(lè)（Buehler）的金相拋光布配合MetaDi金剛石拋光液，為樣品的每步制備都提供可靠的結(jié)果及完整的解決方案。選用的拋光布類(lèi)型主要取決于要處理材料的類(lèi)型和終分析要求。標(biāo)樂(lè)（Buehler）提供各種材質(zhì)、編織方式和絨毛長(zhǎng)短的拋光布，滿足每一種應(yīng)用需求。標(biāo)樂(lè)提供PSA吸附和磁性襯背拋光布。其中磁性襯背拋光布可以快速更換，無(wú)需撕下粘貼。耐用的磁性襯背可以減少更換拋光布的頻率，

　　金剛石磨片石磨盤(pán)提供長(zhǎng)壽命研磨表面，可為各種材料提供出色的表面平整度。 標(biāo)樂(lè)（Buehler）金剛石磨盤(pán)中的金剛石顆粒提供了一致性的去除率和更長(zhǎng)的使用壽命，只需偶爾修整。 標(biāo)樂(lè)（Buehler）的金剛石磨盤(pán)具有良好的邊緣保持性，較長(zhǎng)的使用壽命和結(jié)果的一致性，是自動(dòng)化系統(tǒng)中定量去除材料的選擇。標(biāo)樂(lè)（Buehler）提供多種不同類(lèi)型的金剛石磨盤(pán)產(chǎn)品，具體取決于所加工的材料以及所需的速度和表面質(zhì)量。CGD 特點(diǎn)：非常高的去除率和優(yōu)異的平整度，非常適合研磨高強(qiáng)度材料。DGD Mosaic 特點(diǎn)：材料去除率高，表面

　　Buehler的CarbiMet和MicroCut碳化硅磨紙是SiC磨盤(pán)的主要產(chǎn)品，可有效去除材料并減少表面損傷。 我們的圓盤(pán)具有各種粒度，微米大小和直徑。CarbiMet碳化硅磨盤(pán)可在磨削過(guò)程中提供快速的磨削時(shí)間，同時(shí)將表面損傷降至低。 由于要去除的損壞較少，因此可能會(huì)減少后續(xù)處理的數(shù)量，從而節(jié)省了寶貴的準(zhǔn)備過(guò)程時(shí)間。Apex S支持可在CarbiMet步驟之間進(jìn)行快速轉(zhuǎn)換。 只需移除之前的SiC研磨紙，然后再涂下一張即可，而無(wú)需移除任何背襯或襯墊。MicroCut砂紙?jiān)谔幚硪姿榛虿牧蠒r(shí)可提供溫和的材料

　　Planar磨石是設(shè)計(jì)用于PlanarMet 300的多用途磨盤(pán)。其能夠提供高磨削率和一致的劃痕圖案。Buehler磨石Planar特點(diǎn)：▲快速去除表面材料，保持一致的光潔度?高速研磨石可快速去除表面雜質(zhì)，并提供出色的平整度和表面光潔度。這常常能減少后續(xù)步驟的處理量?！m用于多種材料?提供氧化鋁或碳化硅研磨料,可以研磨多種材料。