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熱門關(guān)鍵詞：碳硫分析儀 顯微鏡 硬度計(jì) 氧氮?dú)浞治鰞x 光譜儀 試驗(yàn)機(jī)
拋光布配合研磨料使用，可去除表面變形層，暴露材料結(jié)構(gòu)進(jìn)行金相分析。由于拋光是金相制備過(guò)程中其重要的一步，所以選擇的拋光布是非常必要的。標(biāo)樂(lè)（Buehler）的金相拋光布配合MetaDi金剛石拋光液，為樣品的每步制備都提供可靠的結(jié)果及完整的解決方案。選用的拋光布類型主要取決于要處理材料的類型和終分析要求。標(biāo)樂(lè)（Buehler）提供各種材質(zhì)、編織方式和絨毛長(zhǎng)短的拋光布，滿足每一種應(yīng)用需求。標(biāo)樂(lè)提供PSA吸附和磁性襯背拋光布。其中磁性襯背拋光布可以快速更換，無(wú)需撕下粘貼。耐用的磁性襯背可以減少更換拋光布的頻率，
金剛石磨片石磨盤提供長(zhǎng)壽命研磨表面，可為各種材料提供出色的表面平整度。 標(biāo)樂(lè)（Buehler）金剛石磨盤中的金剛石顆粒提供了一致性的去除率和更長(zhǎng)的使用壽命，只需偶爾修整。 標(biāo)樂(lè)（Buehler）的金剛石磨盤具有良好的邊緣保持性，較長(zhǎng)的使用壽命和結(jié)果的一致性，是自動(dòng)化系統(tǒng)中定量去除材料的選擇。標(biāo)樂(lè)（Buehler）提供多種不同類型的金剛石磨盤產(chǎn)品，具體取決于所加工的材料以及所需的速度和表面質(zhì)量。CGD 特點(diǎn)：非常高的去除率和優(yōu)異的平整度，非常適合研磨高強(qiáng)度材料。DGD Mosaic 特點(diǎn)：材料去除率高，表面
Buehler的CarbiMet和MicroCut碳化硅磨紙是SiC磨盤的主要產(chǎn)品，可有效去除材料并減少表面損傷。 我們的圓盤具有各種粒度，微米大小和直徑。CarbiMet碳化硅磨盤可在磨削過(guò)程中提供快速的磨削時(shí)間，同時(shí)將表面損傷降至低。 由于要去除的損壞較少，因此可能會(huì)減少后續(xù)處理的數(shù)量，從而節(jié)省了寶貴的準(zhǔn)備過(guò)程時(shí)間。Apex S支持可在CarbiMet步驟之間進(jìn)行快速轉(zhuǎn)換。 只需移除之前的SiC研磨紙，然后再涂下一張即可，而無(wú)需移除任何背襯或襯墊。MicroCut砂紙?jiān)谔幚硪姿榛虿牧蠒r(shí)可提供溫和的材料
當(dāng)某些較軟的、有韌性的試樣，需要經(jīng)過(guò)最終拋光才能達(dá)到理想效果時(shí)，應(yīng)選用氧化物懸浮拋光液。名稱說(shuō) 明粒度包裝（瓶）二氧化硅懸浮研磨拋光液機(jī)械/化學(xué)拋光，液態(tài)氧化硅懸浮液，PH9.5用于高純度金屬及合金、礦物、陶瓷、聚合物的最終拋光。用法：直接使用用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。0.04μm500ml機(jī)械/化學(xué)拋光，液態(tài)氧化硅懸浮液，PH10用于所有材料快速最終拋光。用法：直接使用用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)
本產(chǎn)品含有經(jīng)過(guò)精選的多晶金剛石和特殊的研磨介質(zhì)，用于各種金屬、陶瓷、符合材料及玻璃、寶石等的研磨和拋光，特別適用于金相研磨和拋光。該產(chǎn)品不含任何氟利昂，對(duì)環(huán)境無(wú)害，屬于環(huán)保產(chǎn)品。高效金剛石拋光劑使用方法：1. 使用前拋光織物需用清水濕透，避免磨擦熱。 2. 啟動(dòng)拋光盤后將拋光劑輕搖后倒置噴出。 3. 噴撒拋光劑時(shí)，應(yīng)以拋光盤中心為圓心，沿半徑方向噴出3--5s即可。 4. 新織物噴撒時(shí)間相應(yīng)延長(zhǎng)，以使織物的磨削能力更完美。推薦配套使用：本公司供應(yīng)的金相拋光潤(rùn)滑冷卻液，樣品的拋光效果佳。高效金剛石拋光劑使用
金剛石懸浮研磨拋光液概述： 每一顆金剛石都經(jīng)精挑細(xì)選，嚴(yán)格的分級(jí)粒度，X進(jìn)的制備工藝使之適用于不同的磨拋載體，滿足不同樣品的制備需求。不僅適用于金相和巖相研磨、拋光，還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光。本系列金剛石懸浮研磨拋光液，具備高的磨削率和去除率。- 快速去除率- 經(jīng)久耐磨性- 優(yōu)良潤(rùn)滑性名稱說(shuō) 明粒度包裝（瓶）金剛石懸浮研磨拋光液水基，標(biāo)準(zhǔn)濃度、單晶金剛石（HFMW）金相和巖相研磨、拋光。各種黑色和有色金屬研磨拋光。陶瓷、復(fù)合材
當(dāng)某些較軟的、有韌性的試樣，需要經(jīng)過(guò)終拋光才能達(dá)到理想效果時(shí)，應(yīng)選用氧化物懸浮拋光液。名稱說(shuō) 明粒度包裝（瓶）氧化鋁懸浮研磨拋光液懸浮拋光液采用高純度氧化鋁微粉調(diào)制而成，磨料分散穩(wěn)定、顆粒大小均勻、無(wú)聚積，PH值中性，用于各種精密產(chǎn)品及金相切片分析的拋光。 用法：直接使用7μm、5μm、3μm、 1μm500ml0.5μm、0.3μm、0.1μm 0.05μm500ml鋁溶膠采用高純度氧化鋁微粉調(diào)制而成，磨料硬度高、磨削力強(qiáng)、PH值8.5 , 用于貴金屬、鐵基金屬、碳化物、低熔點(diǎn)合金、印刷線路板、電子元器
金相拋光織物系列專門用于金相制樣時(shí)的粗拋和精拋。適用國(guó)內(nèi)、外各種型號(hào)、規(guī)格的金相拋光機(jī)，尤其適用于手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)金相研磨拋光機(jī)。將該系列拋光織物及金剛石研磨拋光系列產(chǎn)品和金相拋光潤(rùn)滑冷卻液配套使用，可以磨拋出鏡面效果。主要技術(shù)參數(shù)：材質(zhì)說(shuō)明帶背膠規(guī)格無(wú)背膠規(guī)格包裝（片/盒）絲絨長(zhǎng)絨化纖材質(zhì)，選用7μm-2.5μm金剛石、氧化物磨料,用于鋼鐵材料常用的拋光。Φ200mmΦ250mm15片Φ250mmΦ300mm15片Φ300mm 15片絲絨長(zhǎng)絨真絲材質(zhì)，選用3.5μm-0.5μm金剛石磨料，也可與1μ
金相拋光潤(rùn)滑冷卻液，專門用于金相制樣的精磨及拋光時(shí)的潤(rùn)滑和冷卻。金相拋光潤(rùn)滑冷卻液的潤(rùn)滑、冷卻效果好，對(duì)于有色金屬及較軟的鐵基金屬的磨、拋效果尤其明顯。使用該潤(rùn)滑液及同時(shí)使用本公司生產(chǎn)的金相專用拋光系列產(chǎn)品：金剛石研磨拋光系列產(chǎn)品和金相拋光織物拋制出的樣品，表面潔凈、消除金相組織的變形，從而最大限度地減少金相制樣對(duì)真實(shí)金相組織的干擾。金相冷卻潤(rùn)滑拋光液適用國(guó)內(nèi)、外各種型號(hào)、規(guī)格的金相拋磨機(jī)，尤其適用于各種半自動(dòng)或全自動(dòng)金相拋磨機(jī)。主要技術(shù)參數(shù)：名稱說(shuō) 明包裝（瓶）金相拋光潤(rùn)滑液藍(lán)色MP-B，用于大多數(shù)材料
標(biāo)樂(lè)研磨拋光配件耗材1、Planar磨石Planar磨石是設(shè)計(jì)用于PlanarMet 300的多用途磨盤。其能夠提供高磨削率和一致的劃痕圖案。2、碳化硅砂紙CarbiMet & MicroCut碳化硅砂紙?zhí)峁﹥?yōu)的質(zhì)量，保證高效的材料去除和Z小的表面損壞。3、金剛石磨盤金剛石磨盤提供長(zhǎng)壽命研磨表面，可為各種材料提供良好的表面平整度。 標(biāo)樂(lè)（Buehler）金剛石磨盤中的金剛石顆粒提供了一致性的去除率和更長(zhǎng)的使用壽命，只需偶爾修整。 標(biāo)樂(lè)（Buehler）的金剛石磨盤具有良好的邊緣保持性，較長(zhǎng)的使用壽
砂紙1. 砂紙紙基的耐水翹曲性，為試樣和磨料提供穩(wěn)定的連續(xù)的接觸面提供條件；2. 磨料的磨削性能好，提高試樣制備效率；3. 砂紙植砂強(qiáng)度高，砂紙使用壽命長(zhǎng)。國(guó)產(chǎn)砂紙|金相砂紙|碳化硅砂紙產(chǎn)品詳情磨料種類 碳化硅，用于濕磨材料（HV30-800）砂紙背面 普通（無(wú)背膠） 帶粘貼后背（PSA）產(chǎn)地砂紙粒度（歐標(biāo)號(hào)） 預(yù)磨 P120 P180 P240 P320 P400 精磨 P600 P800 P1200 超精磨 P2500砂紙直徑方形230*280mm Φ200mm Φ230mm Φ250mm Φ300m
